專注半導(dǎo)體行業(yè)
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簡要描述：全封閉式桌面顯影機(jī) 主要用于半導(dǎo)體制造中晶片的顯影工藝，性價比高，穩(wěn)定性好，重復(fù)性好，對顯影作業(yè)有非常理想的效果。設(shè)備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能，并且噴嘴位置可程控移動，實(shí)現(xiàn)自動顯影和清洗作業(yè)。
所在城市：無錫市 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新日期：2025-02-11訪 問 量：5858產(chǎn)品分類
詳細(xì)介紹
| 品牌 | LEBO/雷博 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,能源,電子/電池 | 產(chǎn)品尺寸 | 550mm (W) x600mm (D) x405mm (H) |
產(chǎn)品優(yōu)勢
·全封閉式顯影，避免霧氣擴(kuò)散到外部，污染環(huán)境。
·外殼噴塑，耐腐蝕，易清洗。
·內(nèi)腔不銹鋼材質(zhì)，鏡面拋光處理，光滑，耐腐蝕，易清洗。
·內(nèi)置真空過濾器，防止液體吸入真空泵。
·真空壓力可調(diào)，壓力值實(shí)時顯示。
·液體流量可調(diào)，回吸可調(diào)。
產(chǎn)品參數(shù)
支持wafer尺寸：碎片至200mm（8"圓晶）
·轉(zhuǎn)速分辨率：±1 RPM
·旋涂速度：20-3000rpm（空載）
·旋涂加速度：20-10,000rpm/sec（空載）
·工藝時間設(shè)定： 0-3,000sec/step，時間設(shè)置精度： 0.1sec
·該機(jī)型適用于標(biāo)準(zhǔn)3路顯影機(jī)（1路顯影液，1路純水，1路氮?dú)猓?/p>
·單步工藝及多步工藝可選，內(nèi)置100組可編輯程序
·可根據(jù)客戶需求定制四管路顯影機(jī)或更大基片的顯影機(jī)。
產(chǎn)品咨詢
聯(lián)系人：陸燕
地址：江蘇江陰金山路201號創(chuàng)智產(chǎn)業(yè)園A座五樓南
郵箱：lu.yan@leboscience.cn歡迎您關(guān)注我們的微信公眾號了解更多信息
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